一、KCA、KCB鍍鉻添加劑
1. 鍍鉻(ge)工藝(yi)電流效率的提(ti)高
鍍(du)鉻(ge)工藝的(de)(de)電(dian)流(liu)效率低，一般只有10%~13%.特別是(shi)鍍(du)較厚鉻(ge)層的(de)(de)硬鉻(ge)工藝，要鍍(du)0.05mm 厚的(de)(de)鉻(ge)層，往(wang)往(wang)需耗時100min(假定電(dian)流(liu)密度(du)(du)為(wei)(wei)50A/dm2，電(dian)流(liu)效率為(wei)(wei)13%).而(er)一般的(de)(de)耐磨鍍(du)硬鉻(ge)的(de)(de)厚度(du)(du)常常都(dou)在(zai)0.05mm以上，為(wei)(wei)了(le)提(ti)高(gao)生產(chan)效率，縮短電(dian)鍍(du)時間(jian)，故開(kai)發鍍(du)鉻(ge)新型高(gao)效低成本(ben)的(de)(de)添加(jia)劑具有十分重(zhong)要的(de)(de)意義。但(dan)近年(nian)來鍍(du)鉻(ge)添加(jia)劑的(de)(de)研(yan)究熱點是(shi)稀土(tu)陽離子(zi)添加(jia)劑，電(dian)流(liu)效率可提(ti)高(gao)1.3倍，即可達到17.1%,而(er)市面(mian)上所售為(wei)(wei)含(han)(han)稀土(tu)陽離子(zi)的(de)(de)氟化物(wu)(wu)或氟化配合物(wu)(wu)作(zuo)為(wei)(wei)鍍(du)鉻(ge)添加(jia)劑，其價(jia)格較高(gao)，穩定性較差，而(er)氟化物(wu)(wu)對陽極鉛(qian)的(de)(de)腐(fu)蝕(shi)也很(hen)嚴重(zhong)，使用戶(hu)望而(er)生畏。即使使用鉛(qian)銻、鉛(qian)銻錫合金(jin)為(wei)(wei)陽極，腐(fu)蝕(shi)仍有存在(zai)。值得慶幸的(de)(de)是(shi)，目前開(kai)發的(de)(de)有機添加(jia)劑，不含(han)(han)稀土(tu)添加(jia)劑，也不含(han)(han)氟化物(wu)(wu)，已經面(mian)市多年(nian)，在(zai)提(ti)高(gao)鍍(du)鉻(ge)電(dian)流(liu)效率方(fang)面(mian)可以達到20%以上，而(er)且在(zai)整平(ping)性和光亮度(du)(du)上也有顯著的(de)(de)提(ti)高(gao)。
2. 不銹鋼有機(ji)添加劑(ji)鍍鉻液(ye)組成及工藝(yi)條件見表4-10
3. 說明
①. KCA添加(jia)劑和KCB光(guang)亮(liang)(liang)(liang)劑均為國產(chan)有(you)機(ji)磺酸類物(wu)，具有(you)極(ji)強(qiang)的(de)(de)(de)(de)抗氧(yang)化(hua)(hua)性，在(zai)鉻(ge)酸中(zhong)不(bu)被(bei)氧(yang)化(hua)(hua)分解。A劑具有(you)提(ti)(ti)(ti)高整(zheng)平度、快速沉(chen)積(ji)鉻(ge)層的(de)(de)(de)(de)作用(yong)，B劑具有(you)提(ti)(ti)(ti)高光(guang)亮(liang)(liang)(liang)度和硬度的(de)(de)(de)(de)作用(yong)，兩者相互配合(he)使(shi)(shi)用(yong)，可(ke)使(shi)(shi)光(guang)亮(liang)(liang)(liang)度相得益彰的(de)(de)(de)(de)增(zeng)大。B劑與(yu)其他類型鍍鉻(ge)添加(jia)劑合(he)用(yong)也(ye)可(ke)提(ti)(ti)(ti)高鍍鉻(ge)層的(de)(de)(de)(de)光(guang)亮(liang)(liang)(liang)度，是(shi)一種廣譜光(guang)亮(liang)(liang)(liang)劑，但不(bu)可(ke)過量使(shi)(shi)用(yong)，以免增(zeng)大內應(ying)力(li)，發(fa)生(sheng)脆性作用(yong)。［這兩種添加(jia)劑和光(guang)亮(liang)(liang)(liang)劑經常被(bei)采用(yong)，與(yu)同種類型外國產(chan)品相比并不(bu)遜(xun)色。不(bu)銹鋼(gang)直接鍍鉻(ge)時，在(zai)施鍍開(kai)始時采用(yong)電流(liu)階梯式升(sheng)高，從3A/d㎡2、3.5A/dm、4A/dm.....至額(e)定(ding)電流(liu)密度，每次電流(liu)升(sheng)高間(jian)隔幾(ji)分鐘，以提(ti)(ti)(ti)高鉻(ge)層的(de)(de)(de)(de)結(jie)合(he)力(li)，此時產(chan)生(sheng)氫氣(qi)還(huan)原(yuan)表面氧(yang)化(hua)(hua)膜。
②. CWS鍍鉻添加劑主要組成為酰化烷基磺(huang)酸，由(you)國(guo)外進口，價格比國(guo)產要稍高些，可(ke)獲(huo)得光亮、細致的(de)鉻層，當(dang)電流密度在40A/d㎡,每小時可(ke)鍍得0.04mm,鉻層維氏硬度可(ke)達(da)800HV。
二、XG-A鍍鉻走(zou)位劑
1. 鍍(du)液成分(fen)及操(cao)作條件
鉻酐 120~250g/L(Bé12°~23°)
硫酸(suan) 0.6~1.2g/L[m(鉻酐）：m(硫酸(suan)）＝200:1]
三(san)價鉻 0.5~3.0g/L(開缸時）
XG-A走位劑(ji) 1~2g/L(消耗量：每添(tian)加1kg鉻(ge)酐時補加走位劑(ji)10g)
溫度 32~50℃ 、 電流(liu)密度 15~50A/d㎡
2. 經濟效益
①. 可降(jiang)低鉻(ge)(ge)酐濃(nong)度，形狀簡單(dan)的(de)產品(pin)鉻(ge)(ge)酐取下限(xian)(xian)，如(ru)150g/L,凹凸較復雜(za)的(de)產品(pin)則鉻(ge)(ge)酐取上限(xian)(xian)，如(ru)250g/L.而(er)通常的(de)裝(zhuang)飾(shi)鉻(ge)(ge)鍍(du)液(ye)的(de)鉻(ge)(ge)酐高達350g/L,可降(jiang)低鉻(ge)(ge)酐40%~70%,因而(er)使鍍(du)件和掛(gua)具出槽時帶出的(de)鉻(ge)(ge)酐損耗減少，有利于含鉻(ge)(ge)廢水對(dui)六價(jia)鉻(ge)(ge)的(de)處理費用的(de)降(jiang)低。
②. 鍍(du)液(ye)(ye)可在較低溫度(du)32℃時(shi)工作，在夏季的氣溫下可以對(dui)鍍(du)鉻液(ye)(ye)停止供熱(re)保(bao)溫，減少用電費(fei)用，達到節能的效果。
③. 提(ti)高電流效率(lv)，使用(yong)XG-A走位劑的鍍(du)(du)鉻(ge)電流效率(lv)可達18%~25%,而標準鍍(du)(du)鉻(ge)的電流效率(lv)為13%.由于電流效率(lv)的提(ti)高，可減(jian)少(shao)(shao)鍍(du)(du)鉻(ge)時間1/3,可減(jian)少(shao)(shao)用(yong)電量(liang)。
④. 覆蓋能(neng)(neng)力高(gao)，普(pu)通鍍(du)(du)(du)鉻深孔(kong)能(neng)(neng)鍍(du)(du)(du)進(jin)(jin)25%~30%,而(er)用XG-A走位(wei)劑的深孔(kong)能(neng)(neng)鍍(du)(du)(du)進(jin)(jin)80%以(yi)上，使鍍(du)(du)(du)層厚度的分布也(ye)較均(jun)勻(yun)。
3. 常見故(gu)障及解決(jue)辦法見表(biao)4-11。
